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PCB 曝光光源是 PCB 制造中光刻工藝的核心要素之一。在光刻過程中，曝光光源的特性直接影響到 PCB 線路圖形的精度和質(zhì)量。

目前常用的曝光光源包括紫外光（UV）光源、激光光源等。紫外光光源具有成本相對(duì)較低、技術(shù)成熟的優(yōu)勢(shì)，能夠滿足大多數(shù) PCB 生產(chǎn)的基本需求。其波長(zhǎng)范圍一般在特定的紫外波段，能使光刻膠發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)，從而將設(shè)計(jì)好的電路圖形轉(zhuǎn)移到 PCB 板上。而激光光源則具有高能量密度、高方向性和高單色性等特點(diǎn)，能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的線路圖案曝光，尤其適用于高精度、高密度的 PCB 制造，如多層板、HDI 板等的生產(chǎn)。不過，激光光源的設(shè)備成本和維護(hù)成本相對(duì)較高。

在性能指標(biāo)方面，光源的波長(zhǎng)穩(wěn)定性至關(guān)重要，因?yàn)椴ㄩL(zhǎng)的微小變化可能導(dǎo)致光刻膠曝光效果的差異，進(jìn)而影響線路的精度和分辨率。光強(qiáng)均勻性也是關(guān)鍵參數(shù)，均勻的光強(qiáng)分布能夠保證整個(gè) PCB 板上的光刻膠得到一致的曝光量，避免出現(xiàn)局部曝光過度或不足的情況，從而確保線路圖形的完整性和一致性。曝光光源的能量效率也不容忽視，高效的光源能在保證曝光質(zhì)量的同時(shí)降低能耗，提高生產(chǎn)的經(jīng)濟(jì)性和可持續(xù)性，為 PCB 光刻工藝的發(fā)展和進(jìn)步提供堅(jiān)實(shí)的技術(shù)支撐，推動(dòng) PCB 產(chǎn)品向更高性能、更精密化方向發(fā)展。